《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志投稿要求,如下:
(1)要求論文標(biāo)題簡明、醒目,論文格式規(guī)范,論文自帶中/英文摘要(200字左右)及3~5個關(guān)鍵詞。
(2)投稿論文后,編輯部收到稿件后一個月內(nèi)通知作者初審結(jié)果,在此期間請勿一稿多投。
(3)正文應(yīng)條理清晰,層次分明。文中插圖應(yīng)比例適當(dāng)、清楚美觀,標(biāo)明圖序與圖題;表格應(yīng)結(jié)構(gòu)簡潔,盡量采用“三線表”,必要時可添加輔助線,要有表序與表題。
(4)本刊統(tǒng)一采用頁底腳注的形式,每頁注釋重新編號,注釋序號用①,②……標(biāo)識。注碼置于引文結(jié)束的標(biāo)點(diǎn)符號之后右上方。
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電子工業(yè)專用設(shè)備雜志發(fā)文分析
電子工業(yè)專用設(shè)備主要機(jī)構(gòu)發(fā)文分析
機(jī)構(gòu)名稱 | 發(fā)文量 | 主要研究主題 |
中國電子科技集團(tuán)公司第四十五... | 646 | 半導(dǎo)體;光刻;晶圓;電機(jī);拋光 |
中國電子科技集團(tuán)公司第二研究... | 229 | 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能;封裝 |
中國電子科技集團(tuán)公司第四十八... | 168 | 電池;太陽能電池;太陽能;均勻性;離子注入 |
中國電子科技集團(tuán)公司第四十六... | 118 | 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區(qū)熔 |
電子工業(yè)部 | 115 | 半導(dǎo)體;光刻;曝光機(jī);切片;切片機(jī) |
北京中電科電子裝備有限公司 | 92 | 晶圓;劃片;劃片機(jī);鍵合;封裝 |
中華人民共和國工業(yè)和信息化部 | 75 | 光刻;電路;電子專用設(shè)備;集成電路;半導(dǎo)體 |
中國電子科技集團(tuán)公司 | 68 | 電路;集成電路;化學(xué)機(jī)械拋光;機(jī)械拋光;晶片 |
中國電子科技集團(tuán)第十三研究所 | 66 | 光刻;刻蝕;激光;光刻機(jī);投影光刻 |
中國科學(xué)院 | 54 | 光刻;光刻機(jī);電路;半導(dǎo)體;電子束曝光 |
《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志是由中國電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所主辦的雙月刊,審稿周期預(yù)計(jì)為1個月內(nèi)。該雜志的欄目設(shè)置豐富多樣,涵蓋先進(jìn)封裝技術(shù)與設(shè)備、半導(dǎo)體制造工藝與設(shè)備、電子專用設(shè)備研究、專用設(shè)備維護(hù)與保養(yǎng)等。
該雜志為學(xué)者們提供了一個交流學(xué)術(shù)成果和經(jīng)驗(yàn)的平臺,發(fā)表的文章具有較高的學(xué)術(shù)水平和實(shí)踐價值,為讀者提供更多的實(shí)踐案例和行業(yè)信息,得到了廣大讀者的廣泛關(guān)注和引用。