《電子工業專用設備》雜志投稿要求,如下:
(1)要求論文標題簡明、醒目,論文格式規范,論文自帶中/英文摘要(200字左右)及3~5個關鍵詞。
(2)投稿論文后,編輯部收到稿件后一個月內通知作者初審結果,在此期間請勿一稿多投。
(3)正文應條理清晰,層次分明。文中插圖應比例適當、清楚美觀,標明圖序與圖題;表格應結構簡潔,盡量采用“三線表”,必要時可添加輔助線,要有表序與表題。
(4)本刊統一采用頁底腳注的形式,每頁注釋重新編號,注釋序號用①,②……標識。注碼置于引文結束的標點符號之后右上方。
(5)計量和計數單位前需使用阿拉伯數字,外文字母、上下角標、黑白體、大小寫應準確表達,對易混淆的請用鉛筆標注。
電子工業專用設備雜志發文分析
電子工業專用設備主要機構發文分析
機構名稱 | 發文量 | 主要研究主題 |
中國電子科技集團公司第四十五... | 646 | 半導體;光刻;晶圓;電機;拋光 |
中國電子科技集團公司第二研究... | 229 | 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能;封裝 |
中國電子科技集團公司第四十八... | 168 | 電池;太陽能電池;太陽能;均勻性;離子注入 |
中國電子科技集團公司第四十六... | 118 | 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區熔 |
電子工業部 | 115 | 半導體;光刻;曝光機;切片;切片機 |
北京中電科電子裝備有限公司 | 92 | 晶圓;劃片;劃片機;鍵合;封裝 |
中華人民共和國工業和信息化部 | 75 | 光刻;電路;電子專用設備;集成電路;半導體 |
中國電子科技集團公司 | 68 | 電路;集成電路;化學機械拋光;機械拋光;晶片 |
中國電子科技集團第十三研究所 | 66 | 光刻;刻蝕;激光;光刻機;投影光刻 |
中國科學院 | 54 | 光刻;光刻機;電路;半導體;電子束曝光 |
《電子工業專用設備》雜志是由中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦的雙月刊,審稿周期預計為1個月內。該雜志的欄目設置豐富多樣,涵蓋先進封裝技術與設備、半導體制造工藝與設備、電子專用設備研究、專用設備維護與保養等。
該雜志為學者們提供了一個交流學術成果和經驗的平臺,發表的文章具有較高的學術水平和實踐價值,為讀者提供更多的實踐案例和行業信息,得到了廣大讀者的廣泛關注和引用。