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《清華知識產權評論》雜志核心信息

主管單位：清華大學法學院知識產權法研究中心;清華大學微軟創新與知識產權聯合研究中心

主辦單位：清華大學法學院知識產權法研究中心;清華大學微軟創新與知識產權研究中心

出版周期：年刊

《清華知識產權評論》雜志在全國影響力巨大，創刊于2015年，公開發行的年刊雜志。創刊以來，辦刊質量和水平不斷提高，主要欄目設置有：簡報、研究報告、文獻綜述、專題研究等。依托于清華大學法學院的強大學科背景和學術資源，以嚴謹的學術風格和深入的研究方法為特點，致力于發表高質量的知識產權研究論文和案例分析。雜志涵蓋了知識產權領域的各個方面，包括專利、商標、著作權、集成電路布圖設計等，關注知識產權前沿問題，探討熱點法律事件，為實際司法工作提供理論支持。

該雜志不僅注重學術研究，還關注知識產權實踐和社會現實問題。在知識產權領域有著廣泛的影響力，其發表的論文被廣泛引用和參考。也為實際司法工作提供了寶貴的理論支持。同時，還為知識產權教育和普及做出了重要貢獻，促進了知識產權領域的發展和創新。以其嚴謹的學術風格、深入的研究方法和廣泛的影響力，為知識產權領域的學者、律師、企業法務等提供了一個重要的交流和討論平臺，對于推動中國知識產權領域的發展和創新起到了積極的作用。

該雜志作為一本具有較高學術價值的社會類期刊，被多個權威數據庫收錄。如知網收錄(中)等，這些收錄情況充分體現了《清華知識產權評論》雜志在學術界的影響力和認可度。