Plasma Science & Technology（等離子科技雜志）是由IOP Publishing Ltd.出版社主辦的一本以物理-物理：流體與等離子體為研究方向，OA非開放（Not Open Access）的國際優(yōu)秀期刊。旨在幫助發(fā)展和壯大物理與天體物理及相關學科的各個方面。該期刊接受多種不同類型的文章。本刊出版語言為English，創(chuàng)刊于1999年。自創(chuàng)刊以來，已被SCIE（科學引文索引擴展板）等國內(nèi)外知名檢索系統(tǒng)收錄。該雜志發(fā)表了高質(zhì)量的論文，重點介紹了PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS在分析和實踐中的理論、研究和應用。
ISSN：1009-0630
E-ISSN：2058-6272
出版商：IOP Publishing Ltd.
出版語言：English
出版地區(qū)：PEOPLES R CHINA
出版周期：Bimonthly
是否OA：未開放
是否預警：否
創(chuàng)刊時間：1999
年發(fā)文量：199
影響因子：1.6
研究類文章占比：99.50%
Gold OA文章占比：0.48%
H-index：27
出版國人文章占比：
出版撤稿文章占比：
開源占比：
文章自引率：0.1176...
《Plasma Science & Technology》是一份國際優(yōu)秀期刊，為物理與天體物理領域的研究人員和從業(yè)者提供科學論壇。該期刊涵蓋了物理與天體物理及相關學科的所有方面，包括基礎和應用研究，使讀者能夠獲得來自世界各地的最新、前沿的研究。該期刊歡迎涉及物理與天體物理領域的原創(chuàng)理論、方法、技術和重要應用的稿件，并刊載了涉及物理與天體物理領域的相關欄目：綜述、論著、述評、論著摘要等。所有投稿都有望達到高標準的科學嚴謹性，并為推進該領域的科研知識傳播做出貢獻。該期刊最新CiteScore值為3.1，最新影響因子為1.6，SJR指數(shù)為0.401，SNIP指數(shù)為0.75。
CiteScore指標的應用非常廣泛，以期刊的引用次數(shù)為基礎評估期刊的影響力。它可以反映期刊的學術影響力和學術水平，是學術界常用的期刊評價指標之一。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||
| 3.1 | 0.401 | 0.75 |
|
CiteScore是由Elsevier公司開發(fā)的一種用于衡量科學期刊影響力的指標，以期刊的引用次數(shù)為基礎評估期刊的影響力。這個指標是由Scopus數(shù)據(jù)庫支持，以四年為一個時段，連續(xù)評估期刊和叢書的引文影響力的。具體來說，CiteScore是計算某期刊連續(xù)三年發(fā)表的論文在第四年度的篇均引用次數(shù)。CiteScore和影響因子（IF）有所不同。例如，在影響因子的計算中，分子是來自所有文章的引用次數(shù)，包括編輯述評、讀者來信、更正信息和新聞等非研究性文章，而分母則不包括這些非研究性文章。然而，在CiteScore的計算中，分子和分母都包括這些非研究性文章。因此，如果這些非研究性文章比較多，由于分母較大，相較于影響因子，CiteScore計算出來的分數(shù)可能會偏低。此外，CiteScore的引用數(shù)據(jù)來自Scopus數(shù)據(jù)庫中的22000多個期刊，比影響因子來自Web of Science數(shù)據(jù)庫的11000多個期刊多了一倍。
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 26 / 40 |
36.3% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 19 / 40 |
53.75% |
WOS(JCR)分區(qū)是由科睿唯安公司提出的一種新的期刊評價指標，分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好，發(fā)文難度也越高。這種分級體系有助于科研人員快速了解各個期刊的影響力和地位。JCR將所有期刊按照各個學科領域進行分類，然后以影響因子為標準平均分為四個等級：Q1、Q2、Q3和Q4區(qū)。這種設計使得科研人員可以更容易地進行跨學科比較。
中科院SCI期刊分區(qū)是由中國科學院國家科學圖書館制定的。將所有的期刊按照學科進行分類，以影響因子為標準平均分為四個等級。分區(qū)越靠前一般代表期刊質(zhì)量越好，發(fā)文難度也越高。
2023年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 物理與天體物理 3區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
4區(qū)
|
2022年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 物理與天體物理 3區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
3區(qū)
|
2021年12月舊的升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 物理與天體物理 2區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
2區(qū)
|
2021年12月基礎版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 物理 2區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
2區(qū)
|
2021年12月升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 物理與天體物理 2區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
2區(qū)
|
2020年12月舊的升級版
| Top期刊 | 綜述期刊 | 大類學科 | 小類學科 |
| 否 | 否 | 物理與天體物理 2區(qū) |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
2區(qū)
|
Plasma Science & Technology(中文譯名等離子科技雜志)是一本專注于物理,物理：流體與等離子體領域的國際期刊，致力于為全球PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領域的研究者提供一個高質(zhì)量的學術交流平臺。該期刊ISSN：1009-0630，E-ISSN：2058-6272，出版周期Bimonthly。在中科院的大類學科分類中，該期刊屬于物理與天體物理范疇，而在小類學科中，它主要涵蓋了PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS這一領域。編輯部誠摯邀請廣大物理與天體物理領域的專家學者投稿，內(nèi)容可以涵蓋物理與天體物理的綜合研究、實踐應用、創(chuàng)新成果等方面。同時，我們也歡迎學者們就相關主題進行簡短的交流和評論，以促進學術界的互動與合作。為了保證期刊的質(zhì)量，審稿周期預計為 約4.5個月 。在此期間，編輯部將對所有投稿進行嚴格的同行評審，以確保發(fā)表的文章具有較高的學術價值和實用性。
值得一提的是，Plasma Science & Technology近期并未被列入國際期刊預警名單，這意味著其學術質(zhì)量和影響力得到了廣泛認可。該期刊為物理與天體物理領域的學者提供了一個優(yōu)質(zhì)的學術交流平臺。因此，關注并投稿至Plasma Science & Technology無疑是一個明智的選擇，這將有助于提升您的學術聲譽和研究成果的傳播。
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投稿咨詢| 期刊引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| PHYS PLASMAS | 384 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 312 |
| J PHYS D APPL PHYS | 243 |
| SPECTROCHIM ACTA B | 241 |
| NUCL FUSION | 204 |
| IEEE T PLASMA SCI | 172 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 148 |
| APPL PHYS LETT | 126 |
| PHYS REV LETT | 123 |
| J APPL PHYS | 120 |
| 期刊被引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| PLASMA SCI TECHNOL | 312 |
| IEEE T PLASMA SCI | 125 |
| PHYS PLASMAS | 93 |
| NUCL FUSION | 76 |
| FUSION ENG DES | 63 |
| AIP ADV | 51 |
| J PHYS D APPL PHYS | 43 |
| PLASMA CHEM PLASMA P | 37 |
| J ANAL ATOM SPECTROM | 35 |
| REV SCI INSTRUM | 28 |
| 文章引用數(shù)據(jù) | 引用次數(shù) |
| Hybrid electric discharge plasma technolog... | 16 |
| Review on reactive species in water treatm... | 15 |
| Non-thermal plasma treatment as a new biot... | 14 |
| Deposition of SiCxHyOz thin film on epoxy ... | 11 |
| Detection of K in soil using time-resolved... | 8 |
| Remote open-path laser-induced breakdown s... | 8 |
| Mechanisms and efficient elimination appro... | 7 |
| Study of pressure effects on ocean in-situ... | 7 |
| Structure-preserving geometric particle-in... | 7 |
| Strengthening decomposition of oxytetracyc... | 7 |
若用戶需要出版服務，請聯(lián)系出版商：IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE。
