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《應用光學》雜志核心信息
主管單位:中國兵器工業集團有限公司
主辦單位:中國兵器工業第二O五研究所;中國兵工學會
國際刊號(ISSN):1002-2082
國內刊號(CN):61-1171/O4
出版周期:雙月刊
影響因子:復合影響因子0.94,綜合影響因子0.97。
《應用光學》雜志在全國影響力巨大,創刊于1980年,公開發行的雙月刊雜志。創刊以來,辦刊質量和水平不斷提高,主要欄目設置有:理論研究、綜述、光學設計、微光技術、激光技術、紅外技術、光纖技術、穩瞄技術、圖像處理、薄膜光學、光電器件、光學測試等。
《應用光學》辦刊宗旨:是促進學科發展,繁榮學術交流。重點反映光電子技術國內外的發展狀況、研究水平、應用情況,密切跟蹤國外高新技術的研究動態,推動我國光電子技術的發展,打造科技成果轉化平臺,為我國國防現代化與經濟建設服務。
該雜志作為一本具有較高學術價值的科學類期刊,被多個權威數據庫收錄。如北大期刊(中國人文社會科學期刊)、統計源期刊(中國科技論文優秀期刊)、知網收錄(中)、維普收錄(中)、萬方收錄(中)、CA 化學文摘(美)、SA 科學文摘(英)、JST 日本科學技術振興機構數據庫(日)、Pж(AJ) 文摘雜志(俄)、國家圖書館館藏、上海圖書館館藏等,這些收錄情況充分體現了《應用光學》雜志在學術界的影響力和認可度。