《半導體光子學與技術》雜志投稿要求,如下:
(1)請勿一稿多投,嚴禁抄襲、剽竊。
(2)論文內容要求:題目、作者姓名、單位、摘要、關鍵詞、圖題和表題、基金、第一作者簡介。
(3)引言言簡意賅,突出重點。不應過多敘述同行熟知及教科書中的常識性內容,引言作為論文的開端,主要回答“為什么研究”這一問題。
(4)參考文獻要求在文中對應處以上角標形式按引用順序標出序號。作者超過3個時,只著錄前3個,其后以“,”斷開加“等”。
(5)注釋:解釋題名、作者及某些內容,均可使用注釋。能在文章內用括號注釋的,盡量不單獨列出;不隨文列出的注釋,標注符號應注在需要注釋的詞、詞組或語句的右上角,用①,②,③……表示,并于文后依次列出。
半導體光子學與技術雜志發文分析
半導體光子學與技術主要機構發文分析
機構名稱 | 發文量 | 主要研究主題 |
- | - | - |
《半導體光子學與技術》雜志是由重慶光電技術研究所主辦的季刊,審稿周期預計為1個月內。該雜志的欄目設置豐富多樣,涵蓋科技論文 研究報告 性能分析 產品介紹 光電技術應用 學術爭鳴等。
該雜志為學者們提供了一個交流學術成果和經驗的平臺,發表的文章具有較高的學術水平和實踐價值,為讀者提供更多的實踐案例和行業信息,得到了廣大讀者的廣泛關注和引用。